1997年6月
NDS8936
双N沟道增强型场效应晶体管
概述
这些N沟道增强型功率场效应
晶体管都采用飞兆半导体专有的,高电池产生
密度, DMOS技术。这非常高密度的过程
特别是针对减少通态电阻,提供
出色的开关性能。这些器件特别
适用于低电压应用,如笔记本电脑
功率管理和其它电池供电的电路,其中
快速开关,低线的功率损耗,以及电阻
需要瞬变。
特点
5.3A , 30V 。 ř
DS ( ON)
= 0.035
Ω
@ V
GS
= 10V
R
DS ( ON)
= 0.05
Ω
@ V
GS
= 4.5V.
高密度电池设计极低R
DS ( ON)
.
高功率和电流处理能力的一种广泛使用的
表面贴装封装。
表面双MOSFET贴装封装。
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5
6
7
8
4
3
2
1
绝对最大额定值
符号
V
DSS
V
GSS
I
D
P
D
参数
漏源电压
栅源电压
漏电流 - 连续
- 脉冲
T
A
= 25 ° C除非另有说明
NDS8936
30
± 20
(注1A )
单位
V
V
A
± 5.3
± 20
2
功耗双操作
功率消耗单操作
(注1A )
(注1B )
(注1C )
W
1.6
1
0.9
-55到150
°C
T
J
,T
英镑
R
θJA
R
θJC
工作和存储温度范围
热特性
热阻,结到环境
热阻,结到外壳
(注1A )
(注1 )
78
40
° C / W
° C / W
©1997仙童半导体公司
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