EVB71101
315 / 433MHz的接收器
评估板说明
使用TH71101的内部PLL合成器与N = 16 ，固定反馈分压比
（ DIV_16 ） ，两种类型的下转换是可能的：低边注入的LO和高侧LO注入的。
下表总结了一些方程式是有用的计算晶体参考频率
（ REF）和LO频率，对于一个给定的RF和IF 。
喷射式
REF
LO
IF
RF图片
低
（射频 - 中频）/ 16
16
•
REF
RF - LO
RF - 2IF
高
射频（RF + IF ）/ 16
16
•
REF
LO - RF
RF + 2IF
1.6.1
选择的频率规划
下表描述了水晶， LO和图像信号，考虑到315兆赫的例子，
433.92 MHz的射频接收在IF = 10.7兆赫。
信号类型
喷射式
REF / MHz的
LO / MHz的
RF图片/ MHz的
RF = 315 MHz的
低
19.01875
304.3
293.6
RF = 315 MHz的
高
20.35625
325.7
336.4
RF = 433.92兆赫
低
26.45125
423.22
412.52
RF = 433.92兆赫
高
27.78875
444.62
455.32
基准晶体频率的选择是基于一些假设。如例如：图像的
频率不应该是一个无线电波段，其中可能会发生强烈的干扰信号（因为他们可以
表示寄生的接收信号）时， LO信号应该是在300兆赫至450兆赫的范围内（因
这是VCO1的最佳频率范围） 。此外，中频应尽可能的高，以
达到最高的RF镜频抑制。在大胆的描绘所选择的频率计划接收在列
315 MHz和433.92 MHz的分别。
1.6.2
最大频率覆盖范围
参数
喷射式
RF / MHz的
REF / MHz的
LO / MHz的
IF / MHz的
f
民
高
289.3
18.75
300
10.7
f
最大
低
460.7
28.125
450
10.7
39012 71101 01
修订版011
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EVB说明
June/07
MELEXIS [ Melexis Microelectronic Systems ]
