欢迎访问ic37.com |
会员登录 免费注册
发布采购

TQBIHEMT 参数 Datasheet PDF下载

TQBIHEMT图片预览
型号: TQBIHEMT
PDF下载: 下载PDF文件 查看货源
内容描述: 结合0.7μm的E / D pHEMT制和2μm的HBT代工服务 [Combined 0.7μm E/D pHEMT & 2μm HBT Foundry Service]
分类和应用:
文件页数/大小: 3 页 / 132 K
品牌: TRIQUINT [ TRIQUINT SEMICONDUCTOR ]
 浏览型号TQBIHEMT的Datasheet PDF文件第2页浏览型号TQBIHEMT的Datasheet PDF文件第3页  
有限获释专有
结合0.7μm的E / D pHEMT制& 2μm的HBT代工服务
TQBiHEMT
特点
E-模式, 0.30 V, Vth的
D-模式, -0.8 V副总裁
砷化铟镓活动层的pHEMT
TQBiHEMT工艺横截面
概述
TriQuint的TQBiHEMT过程是基于我们的产品 -
发布0.7微米TQPED和TQHBT3.1过程。 TQPED
包括E-模式和D模式pHEMT晶体管。 TQHBT3.1是
2微米发射的InGaP HBT工艺设计的高rugged-
湖,高功率应用。 TQBiHEMT结合了proc-
S弯到一个晶片上,使设计人员能够高度融合
高效率,高功率的InGaP HBT功率放大器到一个单芯片
开关,低噪声放大器,混频器,并表现出较高的其他功能
性能与pHEMT制的实现。此过程的目标是
用于与线性,低损耗和高集成的功率放大器
隔离射频开关应用中,转换器和集成RF
前端。这三个金属互连层封装
迟来的高性能电介质,它允许使用灵活的布线
性,优化的芯片尺寸和塑料包装简洁。精确
镍铬电阻和高价值的MIM电容包括允许 -
荷兰国际集团更高的集成度,同时维持较小的,成本 -
有效芯片尺寸。
流程+的InGaP HBT
0.7微米的光Lithography-
2微米光Lithography-但排放
TER值;贝塔= 75
高密度互连:
2全球
1地方
高Q值无源器件
薄膜电阻
大容量的电容(1200
PF /微米
2
)
背面的通孔可选
基于生产TQPED
pHEMT制和TQHBT3.1 HBT
应用
高效整合
与线性功率放大器
低损耗,高隔离,低
谐波含量开关
集成的数字控制逻辑
对于交换机和收发器
转换器
集成RF前端Ends- LNA ,
SW , PA
无线收发器,基地台站
系统蒸发散,直播卫星
雷达,数字无线电,射频/
混合信号IC
功率检测器和耦合器
第1页3 ;修订版0.3 ; 2008年6月5日