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未来的非易失存储器(NVM)探索

时间:2008-1-25, 来源:互联网, 资讯类别:新品推荐

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厂商: 加入文档库时间: 2005-9-19 14:41:39
文章摘要: 浮栅闪存晶体管在缩微至深亚100nm范围工艺尺寸时面临严重的挑战,主要由于为了可靠的电荷保持必须采用厚隧道氧化层。与此相比,电荷捕获存储器器件需要的电压小,具有更良好的工艺缩微性质
发布人及来源: 电子产品世界

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