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发布采购

Gigaphoton将于2020年引进新型ArF浸没式激光器

日期:2020-2-22标签: (来源:互联网)

半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社宣布,2020年将增加全新产品,其中包括采用新技术的最新ADC10462CIWM半导体制造光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”这2种机型。

配备加快技术转移的新技术

半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社(总部:栃木县小山市、董事长兼总经理:浦中克己)宣布,2020年将增加全新产品,其中包括采用新技术的最新半导体制造光刻光源ArF浸没式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”这2种机型。

随着近年来IoT的普及以及AI的实际运用,半导体用途不断扩大,从而要求半导体芯片需要进一步加快通信速度,实现更大数量的数据处理。尤其在2020年,5G(第5代移动通信)开始面向普通人群提供服务,因此需要10nm以下节点的小型、高速、低功耗逻辑IC以及用于存储爆炸性增长数据的大容量存储芯片。

新型ArF浸没式激光器“GT66A”配备了新开发的光学模块,成功降低了空间相干,并改善了曝光面的光束均匀性。新型KrF用激光器“G60K”进行了时隔约15年的全型号变更,通过引进新型电源单元,实现了以往1.5倍的输出。Gigaphoton通过这些新技术为芯片制造商提供支持。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示:“随着引进IoT的产业设备及家电的普及,配合AI与5G,同时推动工厂、医疗、汽车、社会基础设施等多个领域的实时化以及智能化。我们将通过配备新技术的新产品线,为新一代产业界的发展做出贡献。”