在普通导线上雕刻很容易，但要在纳米尺度的导线上刻出一条缝隙却非常困难，因为在如此微小的距离上无法使用任何传统物理工具。在7月1日的《科学》杂志上，美国西北大学的科学家就报告了他们的新方法，可以雕刻出5纳米宽的缝隙，为大批量、低成本制作带孔隙纳米导线开辟了道路。

     雕刻孔隙对于制作附带功能的纳米导线很重要。通过控制这种孔隙，科学家和工程师可以设计出微小的集成电路，以及用于诊断的基因芯片和开发药物的蛋白质阵列等精密设备。西北大学纳米技术研究所主任乍得•米尔金说：“我们的方法使人们可以将微小的缝隙引入导线，这些缝隙被分子填满后，就成为了微小的电学与光学设备或者化学与生物学传感器的部件。”米尔金表示，开发复杂的纳米电子元件，需要能制作出不到20纳米宽的电极缝隙，而传统方法无法做到这一点。

　　米尔金等人的方法是：首先在有孔的纳米导线模板中，将两种材料———不会被化学腐蚀的金和可以被腐蚀的镍———沉降形成导线，再把模板溶解从而释放出导线，此时的导线散布在一个平面上，接下来再在导线上沉积一层很薄的玻璃。最后，用湿化学蚀刻法移除悬浮在溶液中的导线里面的镍，就剩下了金纳米导线和移除镍后剩下的空隙。玻璃在此时起到了支撑保护的作用。使用这种方法，研究人员已经制作出了缝隙宽度为2.5、5、25、40、50、70、100、140和210纳米的导线。

　　米尔金说：“我们现在可以根据不同功能的需要，往缝隙中填充各种分子。如此一来，使用分子作为各种纳米设备的元件成为可能。”