远紫外线光刻技术能让芯片制造商生产尺寸小于30纳米的电路，而这也让摩尔定律的延续成为可能。 对摩尔定律的担忧从上世纪90年代就开始了，连英特尔公司也感到了压力。该公司制造技术部副总裁兼制造技术工程部总经理Jai Hakhu在日前举行的3i iSight Semiconductor Event(由风险投资公司3i公司和无晶圆厂半导体协会共同发起的会议)上警告，“如果半导体设备供应商不能设计出创新的和可承受的解决方案，摩尔定律将会受到阻碍。” 要让芯片中的晶体管数量每隔18个月翻一番，就必须实现在一个硅晶圆上加载更多更小的晶体管和更精细的微结构。芯片行业的风向标英特尔公司的“2009年32纳米、2011年22纳米”的规划向我们表明了这种趋势，但技术人员都深知，他们必须把希望寄托在一些切实可行的技术上。英特尔在8月3日公布的两项成果让人们看到了一些希望。 这两项被英特尔称为“里程碑式的突破”的成果均在EUV(远紫外线，或者极紫外线)光刻技术领域，该公司安装了全球第一套商用EUV光刻工具，并建立了一条EUV掩膜试生产线。简单来说，EUV光刻技术就是用远紫外线来实现芯片制造的光刻工艺。英特尔的工程师宣称，他们已经运用该技术“朝着2009年实现32纳米制程的方向迈出了重要的一步”。英特尔技术和制造事业部组件研发总监Ken David表示：“这将有助于我们继续将摩尔定律的优势在未来十年得到延续。” （转自 中国电子元器件网）