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MagnaChip开发0.13mm工艺,06年先用于CMOS
类别:电子综合  
 
        

    

    

     韩国MagnaChip Semiconductor Ltd.计划增加资本支出,同时正在面向多种应用开发新型130纳米工艺。预计MagnaChip将在2006年开始供应基于130纳米工艺的产品。该公司的总裁兼首席执行官Youm Huh表示:“(基于这种工艺的)首款产品将是CMOS图像传感器。” 该公司声称是主要CMOS图像传感器厂商之一。在截止到2004年9月30日的九个月内,它按净销售额排名的三大CMOS图像传感器客户是三星电子、LG Electronics和Hansung。 MagnaChip还准备扩大其CMOS图像传感器线。MagnaChip的210万像素CMOS图像传感器已经有样片提供,320像素的产品计划在12月推出。 MagnaChip以前是韩国Hynix公司的非存储芯片部门,被Hynix出售给了由Citigroup Venture Capital Equity Partners LP和CVC Asia Pacific Ltd.新设立的一家韩国公司。2004年,MagnaChip的营业额约为10亿美元,其中50%来自于代工业务,它可归类于IDM(integrated device manufacturer)代工商。它也设计和制造自己的标准产品,例如CMOS图像传感器和LCD驱动IC。 MagnaChip目前拥有5座晶圆厂,包括3座8英寸厂,1座6英寸厂和1座5英寸厂。其最先进的工厂是采用0.15微米工艺的8英寸厂。 2006年MagnaChip将把总体资本支出从2005年的8000万美元提高到1.5亿美元。该公司没有兴建300毫米工厂的计划。制造业务执行副总裁Tae Young Hwang表示:“我们近期没有兴建300毫米工厂的计划。” “我们不和台积电与联电竞争,”Hwang表示,“如果我们和他们竞争,会让我们感觉良好,但却不会让我们赚到钱。”