我国光刻机技术处于落后地位，22nm与ASML的7nm有何区别

芯片制造已经被多国列为核心机密技术，华为麒麟芯片7nm技术的突破，为华为手机的创新扳回一城，尤其是双11手机销售，可以与苹果叫板的只有华为了，毕竟华为大部分手机都是使用自己的芯片，而国产其它的手机，比如小米、ov使用的AD589JH芯片都属于高通系产品，在美国贸易战之下，华为为国产芯注入了活力，支持度也是相当高的，所以华为手机目前成了果产当之无愧的老大哥了。

由此可见，在芯片的研发上，谁能先人一步，就会在手机市场上叱咤风云，正是由于华为的芯片技术，在手机上成本上才大为缩减，从而才能让利于老百姓。使用高通芯片的手机厂商都在为高通打工，老百姓买手机的成本也是大为增加。但芯片的制造要依赖于光刻机，目前我国光刻机的技术研发还属于一个短板。

近期ASML推迟交付给我国中芯科技7nm的EUV极外紫光光刻机引来大家的热议，阿斯麦属于目前世界顶级的光刻机研发制造厂商，目前的成熟技术是7nm光刻机，而且已经投入使用，比如三星、台积电都在用这款光刻机生产7nm芯片，而我国的中芯国际在去年给阿斯麦公司付款1亿多美元购买的光刻机却迟迟不给供货，这让大家的目光再一次聚焦到光刻机技术的研发上了。

要知道阿斯麦光刻机属于定点供货产品，只有加入该研发联盟的股份，才有资格提前享受最先进的光刻机，因为阿斯麦的研发上得益于很多芯片巨头的资金投入，研发经费海量，可以广泛搜罗全球顶级研发人员为之服务，这也是其技术一路领先别的厂商的原因，甚至很多以前做光刻机的公司，觉得投入与产出不匹配，都纷纷放弃转而成为阿斯麦的光刻机投资同盟。

我国对于光刻机的研发也是出于初级阶段，有上海微电子目前的90nm技术的光刻机，还有中芯国际的光刻机产品，由于我国是芯片消耗大国，但却不是生产大国，核心技术都被国外公司牢牢把控，导致每年花在芯片上的资金一直居高不下。

去年中科院通过验收的22nm光刻机是其7年技术攻关的结果，这也是国产一代机器，22nm工艺指的是一次曝光成型的，理论上可以通过这个光刻机多次曝光生产10nm的芯片，但要赶上荷兰的7nm还是有非常大的技术困难。至少还需要4代约20年才能跟上ASML的技术水平。

荷兰的光刻技术采用的是通过缩小光的波长来减少衍射效应带来的精度损失，随着精度不断地提高，工艺难度机器成本也越来越大，这个衍射效应的存在，导致其精度也存在着上限。我国研发光刻机其实并没有走ASML的老路，毕竟中间会存在技术壁垒和专利纠纷，我们则是同时投资不同的技术，22nm技术使用的是表面等离子体光刻。

我国的22nm技术没有使用荷兰的原有技术，在研发上也不会存在衍射效应，属于独辟蹊径，天花板更高，但由于这台光刻机无法做到超高精度对准，虽然可以使用光栅、晶体阵列来进行制造，但无法用复杂IC图案制造，与ASML还有很大的距离。目前这款光刻机还很粗糙，无法投入商用，但它的原理和上限要高于ASML的光刻机，只要进行不懈的努力，超越国外的光刻机也不是难事。