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时间:2016-4-22,阅读:303,发布企业:深圳南方易购电子有限公司, 资讯类别:会员资讯
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全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)20日宣布,在台积电、英特尔及三星三大晶圆厂力挺下,最先进的极紫外光(EUV)已连续四周平均妥善率逾八成,本季底前将完成三台最新的EUV系统出货。

EUV堪称半导体设备发展以来最昂贵的设备,一台售价高达9,000 万欧元(约新台币36亿元),这项设备也是半导体产业向更先进制程发展最关键设备,因此发展进度,一直各界关注焦点。

台积电共同执行长暨刘德音表示,台积电本季将会再增购一台EUV设备,不过台积电将会于5奈米制程才会导入生产制程,显示EUV的输出率,目前仍处于试验阶段。

不过,ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)昨天在公布第1季财报后,也针对EUV进展,公布重大突破。

他强调,ASML的目标是在今年持续强化EUV系统的生产力和妥善率,并计画在今将机台生产力提升到每天曝光1,500片晶圆。

他说,今年首季,ASML的EUV系统即展现每天曝光350片晶圆的实力。在妥善率方面,三个客户端的EUV系统都展现连续四周平均妥善率达80%以上的成果。

至于首季已出货一台最新EUV微影系统NXE:3350B,计划第2季出货两台EUV系统。

ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸润式机台NXT:1980,并出货6台,且快速将生产力拉升到每天4000片晶圆的水准。这套系统将应用在即将迈入试产的10奈米制程。

ASML也于本季推出最新一代的整合式量测系统YieldStar 350E,提供晶圆更准确的量测结果来做后续分析。

ASML昨天公布首季营收13.3亿欧元,毛利率42.6%,双双超标,本季预期在客户导入新的浸润式机台为10奈米量产做准,且扩增28奈米制程产能,乐观预期会有强劲成长。

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