快速发布采购 管理采购信息

【TMS0130NC】**北京显易科技有限公司==www.ic37.com

时间:2018-11-5,阅读:43,发布企业:北京显易科技有限公司, 资讯类别:会员资讯
公司:
北京显易科技有限公司
联系人:
曹小姐
手机:
010-51987308
电话:
086-010-51987308
传真:
086-010-51986915
QQ:
1306610685 和我即时交谈
地址:
海淀区远大路20号鹏安世纪大厦E座11C2-2
摘要:北京显易科技有限公司小曹: 010-51987308 ; QQ:800062492:QQ:1306610685; 邮箱:bjxianyi-4@163.com 网址: www.ic158.com

北京显易科技有限公司小曹: 010-51987308 ;

QQ:800062492:QQ:1306610685;

邮箱:bjxianyi-4@163.com 网址:

大量优势库存

日前,有消息称,比利时研究机构Imec和微影设备制造商ASML计划成立一座联合研究实验室,共同探索在后3nm逻辑节点的奈米级元件制造蓝图。此次双方这项合作是一项为期五年计划的一部份,分为两个阶段:

首先是开发并加速极紫外光(EUV)微影技术导入量产,包括最新的EUV设备准备就绪。

其次将共同探索下一代高数值孔径(NA)的EUV微影技术潜力,以便能够制造出更小型的奈米级元件,从而推动3nm以后的半导体微缩。

极紫外光(EUV)微影技术

EUV光刻也叫极紫外光刻,它以波长为10-14 nm的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的软x射线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。

光刻技术是现代集成电路设计上一个最大的瓶颈。现cpu使用的45nm、32nm工艺都是由极紫外光液浸式光刻系统来实现的,但是因受到波长的影响还在这个技术上有所突破是十分困难的,但是如采用EUV光刻技术就会很好的解决此问题,很可能会使该领域带来一次飞跃。涉及到生产成本问题,由于极紫外光刻是目前能力最强且最成熟的技术,能够满足精确度和成本要求,所以其工艺的延伸性非常强,很难被取代。因而在光刻技术方面,在22/20nm的节点上,主要几家芯片厂商也将继续使用极紫外光液浸式光刻系统的双重成像技术。


资讯分类
会员资讯