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大量优势库存

价格昂贵且延迟已久的EUV系统将成为主流工具?

台积电、英特尔都把研发主力寄望于,这台史上最昂贵的工具机,认为EUV在2017年开始试产的7nm制程将大发神威,成为主力机种。全球每年生产上百亿片的手机晶片、记忆体,数十年来都仰赖程序繁琐,但原理与冲洗照片类似的曝光显影制程生产。其中以投射出电路图案的微影机台最关键、也最昂贵。

过去十多年,全球最先进的微影机,都采用深紫外光,然而英特尔、台积电量产的最先进电晶体,大小已细小到仅有10 nm左右。而波长仅有13nm的EUV,依照该技术的主要推动者英特尔规划,2005年就该上阵,量产时程却一延再延。主要是因为这个技术实在太难了。EUV光线的能量、破坏性极高,制程的所有零件、材料,样样挑战人类工艺的极限。例如,因为空气分子会干扰EUV光线,生产过程得在真空环境。而且,机械的动作得精确到误差仅以皮秒(兆分之一秒)计。

最关键零件之一,由德国蔡司生产的反射镜得做到史无前例的完美无瑕,瑕疵大小仅能以皮米计。因为EUV的技术难度、需要的投资金额太高,另外两大微影设备厂──日本的Nikon和佳能,都已放弃开发。


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