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没有光刻机能做芯片吗?

日期:2021-1-20标签: (来源:互联网)

好消息是中科院突破了石墨烯的关键技术,成功出现在8寸石墨烯晶圆上。国外花了几十年才成功开发出EUV光刻机。回顾2020年至今,中国芯片频频传出好消息,除了中科院的关键技术突破,每一条信息都值得鼓舞。前中科院突破了石墨烯的关键技术,后来的华为、紫光、SMIC等半导体公司都在加强自主技术的研究。

国产芯片发展多年,与华为海思、紫光集团、SMIC、长江存储等多家半导体企业合作,帮助国产芯片成长。提高国内芯片供应链系统的自主性,但这些半导体企业都是基于传统的硅技术进行研发的。

市场上的所有芯片材料、BA3835F-E2技术和工艺都是用硅开发的。高纯硅是从一堆沙子中提取出来的,然后制成晶片。晶圆制造商将其加工成芯片和集成电路。最后,经过一系列的封装和测试技术,处理后的芯片被装载到电子设备上,并在市场上销售。

这一系列工艺的源头是硅,但先进的硅技术掌握在国外企业手中,从光刻机到材料、元器件等等,都是对方提供的。

这样一来,中国乃至全世界的芯片产业链都无法完全淘汰国外的技术。但是,如果去掉硅,换一种方式寻找芯片制造材料,产业链是否可以在完全没有对方技术的情况下重建?

比如用石墨烯作为制造芯片的材料,加工碳基芯片。理论上,同样的工艺性能是传统硅基芯片的十倍。好消息是中科院突破了石墨烯的关键技术,成功出现在8寸石墨烯晶圆上。

没有光刻机能做芯片吗?

这无疑是一个好消息,这意味着基于石墨烯的新型碳基芯片迈出了关键的一步。最重要的是,对光刻机的依赖可能没有那么强。

没有光刻机能做芯片吗?

现有的硅基芯片都是由光刻机制造的,如果要生产5纳米芯片,需要极紫外(EUV)光刻机来制造。芯片的纳米级越高,对光刻设备的需求就越大。

但是,以国产光刻机的标准来看,距离EUV光刻机的标准还有很长的路要走。要想完全本地化,还是需要努力的。国外花了几十年才成功开发出EUV光刻机。如果你想在这里度过接下来的几十年,你可能会错过机会。

然而,石墨烯晶片的成功出现带来了一线希望。因为对光刻机没有过多的需求,外界认为不用光刻机就可以制作芯片。但从目前芯片市场的本质来看,如何在没有光刻机的情况下制造芯片,还有待探讨。

但是如果碳基芯片在理论上可以达到同样工艺的硅基芯片的十倍性能,也许DUV光刻机制造的芯片也可以达到EUV光刻机制造的芯片的效果。在DUV光刻机上,努力工作是有可能取得进步的。

这也是一个关键的标志,所以面对未来,重新看到方向,变道不是一个好的策略。

好消息来自中芯

经过十几年的发展,中国芯片也不是没有自己的成就。回顾2020年至今,中国芯片频频传出好消息,除了中科院的关键技术突破,每一条信息都值得鼓舞。

例如,华为海思信开发了自己的1GB单显示芯片,紫光国鑫推出了12纳米技术的GDDR6存储控制器和物理接口ip,天智智信开发了自己的7nmGPGPU培训芯片。也有大家族的激光自行开发的光刻机少量出售。而西湖大学则突破了“冰雕”三维微纳加工技术等等。

这一系列的好消息证明了中国的芯片在不断进步,甚至在光刻机领域,中科院已经宣布要入局了,国内的芯片也获得了不少好消息,相信未来也会有好消息。

总结一下

世界芯片行业发展了几十年,技术上有很多值得学习的地方。而国产芯片一直在努力向自主研究方向推进,加强自主核心技术的研发。前中科院突破了石墨烯的关键技术,后来的华为、紫光、SMIC等半导体公司都在加强自主技术的研究。