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2nm时代来临：ASML发布第三代EUV光刻机
随着全球半导体行业的持续进步和对先进制程技术的追求，2nm制程技术的时代正式来临。作为光刻机领域的巨头，荷兰ASML公司再次引领技术革命，发布了第三代极紫外光（EUV）光刻机，为半导体制造业进入2nm时代铺平了道路。在半导体行业内，“纳米”是衡量芯片制造工艺精细度的重要指标，数字越小，意味着制造工艺越先进。2nm工艺的ADG408BRZ-REEL芯片将拥有更高的性能和能效比，同时在同等功耗下能够提供更强的计算能力，这对于高性能计算、人工...
日期：2024-3-18阅读：693 -
我国推进硅光子新赛道：无需EUV 光刻机和先进制程
硅光子学是一门新兴的跨学科领域，它结合了光子学和半导体硅基技术，致力于在硅材料上实现光的生成、操控、传输和检测。与传统的电子学相比，硅光子学在数据处理和通信方面拥有更高的带宽、更低的功耗，以及更好的集成度，因此被认为是下一代信息技术的关键赛道。在传统的半导体制造过程中，极紫外光（EUV）光刻机是制作先进EP1S30F1020C7芯片不可或缺的设备之一，用于在硅片上精确地定义纳米级的电路图案。然而，EUV光刻技术成本高昂，设备复杂，而硅光...
日期：2024-1-25阅读：724 -
能耗成了EUV光刻机的最大掣肘，纳米压印才是降低功耗的“正道”？
EUV光刻技术（Extreme Ultraviolet Lithography）是目前半导体芯片制造领域中最先进的ADM232AARN光刻技术之一，被广泛应用于制造高性能微电子器件。然而，EUV光刻机的能耗成为了其进一步发展的一大难题。在这种情况下，纳米压印技术被认为是一种能够降低功耗的“正道”。EUV光刻机的能耗问题主要源于两个方面：首先，EUV光源需要产生极高能量的光线，以实现对极小尺寸的芯片特征的准确曝光。这导致EUV光源的能耗相...
日期：2023-10-25阅读：616 -
ASML不惧佳能纳米压印光刻机！
佳能最近发布了一款被称为能够生产2纳米芯片的新一代纳米压印光刻机。这一消息引起了业界的广泛关注和讨论。然而，ASML作为全球领先的半导体设备制造商，对于佳能的这一举动并不感到担忧。ASML是一家总部位于荷兰的公司，专注于研发和制造半导体设备，特别是光刻机。光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，用于将电路图案转移到ADS1015IDGSR芯片上。ASML在这一领域拥有丰富的经验和领先的技术，其产品被全球主要芯片制造商广泛采用。虽然佳能声...
日期：2023-10-19阅读：711 -
挑战 EUV！佳能发布新型 2nm 光刻机
佳能（Canon）作为全球领先的摄影器材制造商，一直以来都致力于提供高品质的相机和镜头产品。然而，近年来，随着科技的不断进步，佳能也开始投入到半导体行业中，并且在该领域取得了一定的进展。最近，佳能宣布推出一款全新的2纳米（nm）光刻机，这是一项令人瞩目的成就。光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，用于在硅片上制造微小的FQP4N90C芯片结构。在当前的半导体工艺中，最先进的光刻机使用的是13.5纳米（nm）的极紫外（Extreme U...
日期：2023-10-18阅读：659 -
不用EUV光刻机也能造5nm芯片，佳能开始出货相关设备，国产芯片要跟进吗？
目前，EUV（极紫外光刻）技术被广泛认为是制造5纳米及更小尺寸芯片的必备技术之一。然而，最近有报道称佳能公司已经开始出货不使用EUV光刻机的相关设备，这引发了人们对于是否需要EUV的讨论。那么，国内的M25P16-VMF6TP芯片制造企业是否需要跟进佳能的脚步呢？首先，让我们了解一下为什么EUV技术被认为是制造5纳米及更小尺寸芯片的必需技术。传统的光刻技术使用的是193纳米的紫外光源，而EUV技术使用的是13.5纳米的极紫外光源，能够实...
日期：2023-10-17阅读：597 -
光刻机突破之路漫长
光刻技术是半导体制造中最重要的工艺之一，它是制造AD822ARZ-REEL7芯片的核心技术之一。随着半导体工艺的不断进步和芯片制造的需求不断增加，光刻机的性能要求也越来越高，从而促进了光刻机技术的不断发展和创新。然而，光刻机的技术突破之路并不平坦，需要经历许多挑战和困难，下面就让我们一起来看看光刻机的突破之路。一、传统光刻机技术传统的光刻机技术是基于投影光刻技术的，其原理是通过控制光源、掩膜和光学系统等来实现芯片图案的投影。这种光刻机技...
日期：2023-6-8阅读：560 -
中国能制造出顶级光刻机吗?
光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于半导体芯片制造过程中的BU4015B图形芯片。由于光刻机的高精度和性能要求，其制造难度相对较大。目前，市场上只有少数公司能生产顶级光刻机。那么，中国能制造顶级光刻机吗？首先，我们需要认识到光刻机制造业属于高科技产业，其技术门槛非常高，需要丰富的经验和深厚的技术积累。目前，世界领先的光刻机制造商主要集中在荷兰、日本和美国，其中荷兰ASML是世界上唯一能够生产顶级光刻机的公司，在全球光刻机市场上具有绝...
日期：2023-4-7阅读：1337 -
深紫外光刻机适用于哪种范围内的紫外线波段？
与大规模集成电路相比，由于体积小、空间有限、功能单一，用于实现光路由和光交换的光器件在应用中受到很大限制，因此在许多光通信模块中仍然需要大量的光转换。可见AD9248BCPZ-40光传感器，韩国GENICOM 可见光传感器 － GVGR－T10GD，芯片小于0．4mm，TO－46封装，使用的铟镓氮材料，含有PN型光电二极管，光伏模式操作，响应性高，暗电流低。近年来，随着个人计算机的普及和互联网的快速发展，数字移动通信业务转向个人通信，引...
日期：2023-2-24阅读：1175 -
中国迫切需要EUV光刻机和其他设备的突破
据悉，EUV光刻机作为最先进的半导体制造设备，最终是由光刻胶、掩膜板、镜组等部件的技术集体突破形成的。但最重要的是EUV名称中极紫外线的生成方法，即EUV光刻机的光源。核心光源EUV光刻机机EUV采用二氧化碳气体激光器BYW51-200，通过轰击液体锡形成等离子体，产生13.5nm的EUV光源，并传输到EUV光学系统，不同于传统的准分子激光直接产生的DUV光源。它是目前最成熟的EUV光源，使用激光等离子体（LPP）实现原则。在现有的EU...
日期：2023-2-13阅读：1168 -
泛林集团:2023年半导体光刻机设备市场仍将迎来增长
据报道，半导体制造设备制造商的趋势作为整个半导体行业几乎最上游的市场，尤其引人注目。特别是在此期间，他们的总结和预测虽然只专注于半导体设备市场，但也为今年的整个半导体市场定下了基调。如果说今年整个半导体设备市场的表现，那么大部分厂商对此持悲观态度。例如，泛林集团预计今年的市场规模将减少到75亿美元，比去年减少20亿美元。对半导体光刻机BAS21的需求不断增加，FPD下调光刻机需求也许是唯一的EUV光刻机供应商，ASML尽管也表达了对20...
日期：2023-2-2阅读：1244 -
全球芯片行业绕开昂贵的EUV光刻机，降成本成为芯片行业的共识
目前，先进的芯片制造工艺引起了业界的广泛关注，在行业内引起了广泛关注。ASML的EUV在光刻机的支持下，摩尔定律得到了延续。然而，现在硅基芯片BC635已经逐渐达到物理极限。世界上许多芯片公司都开发了新技术，试图绕过它们EUV光刻机的限制。对于现有的硅基芯片，世界上最大的芯片制造商台积电研发先进技术遇到了巨大的阻力，3nm该技术已经推迟了一年，但在今年第三季度研发成功后，苹果认为它是试生产的A16处理器性能不达标，但成本太高，苹果最终放...
日期：2022-11-29阅读：1162 -
光刻机存在哪些误区
1.DUV和EUV限制国内扩产的逻辑被打破了？光刻机大致分为两类：1）DUV深紫外光刻：可制备0.13um到28／14／7nm芯片；2）EUV极紫外光刻机：适用于7nm到5／4／3nm以下芯片。目前情况下DUV光刻机不限制中国，仍在正常供应，因为供应商主要来自欧洲和荷兰ASML以及日本Nikon.佳能，不直接接受美国禁令，但是EUV目前还没有买到。回顾光刻机的历史，我们发现：DUV技术由日本和荷兰独立发展：自2006年超越尼康成为全球光...
日期：2022-9-27阅读：824 -
ASML警告美国:切断对中国的供应DUV光刻机的半导体供应链
据美国媒体报道，两家美国芯片设备公司泛林集团和科雷证实，美国对中国芯片的打压已从10纳米扩大到14纳米，包括中芯国际和投资大陆的半导体制造商。从近年来国内芯片B220-13的发展来看，美国目前的举措无非是正式将一些长期存在的东西摆在桌面上，并澄清一些模糊的东西。我们还记得，2018年中芯国际向AMSL订购了一台EUV光刻机，价格高达1.2亿美元。不过，今天中芯国际订购的这台EUV光刻机还没有到货。根据原计划，这台光刻机将于2019年交付...
日期：2022-8-2阅读：696 -
ASML和台积电成功地开发了浸润光刻机
目前，有两种光刻机，一种是DUV，另一种是EUV，这是关注关刻机技术的人都知道的。其中，7nn及以下的芯片采用EUV光刻，7nm以上的芯片采用DUV光刻。而DUV光刻，则基本采用浸润原理。也就是说，在光刻机中，使用水作为介质，使193nm波长的光线在进入水中进行折射，从而实现从45nm-10nm级的光刻。实际上，在浸润均采用干式光刻机，即介质为空气，193nm波长的光线，直接用于浸润式光刻机推出前的光刻。而且在干式光刻技术中，尼康、佳能...
日期：2022-6-21阅读：611 -
光刻机是半导体制造环节的核心设备
最近，随着晶圆制造商巨头发布了价格上涨通知，芯片价格上涨已成为一种趋势。价格上涨被认为是半导体行业的高繁荣信号，但其主要驱动力仍来自半导体市场长期存在的困境——缺乏核心。为什么半导体的生产能力有限？中国的半导体行业应该如何提高其生产能力？01光刻机供不应求，研发难，量产难。半导体供应紧张的最大原因之一是设备短缺，光刻机是最重要的。光刻机是制造芯片BC817-40的关键前路设备之一。其主要功能是将芯片设计公司制作的电路图缩小并打印在硅晶圆...
日期：2022-6-7阅读：648 -
台积电、三星使用ASML最新High-NAEUV光刻机开发2nm工艺
据国外媒体报道，指光刻机巨头ASML新一代High-NAEUV设备定价约4亿美元，折合人民币27亿元，是上一代EUV光刻机的两倍多。上一代EUV光刻机的价格大约是1.2亿美元恐怕台积电会再次流血。目前，光刻机B3J-6300市场几乎被ASML垄断。在垄断的情况下，ASML可以为所欲为。因此，ASML可以为EUV光刻机设定天价，台积电等芯片制造商只能接受。台积电、三星等计划在今年下半年批量生产3nm工艺。目前，他们使用的EUV光刻机是第一...
日期：2022-5-24阅读：564 -
中国的芯片制造可以生产7nm工艺的DUV光刻机
最近，ASML高管表示，摩尔定律仍然生效。依靠现有的EUV光刻机等技术，芯片制造技术可以进一步推广1纳米。这一说法是在第一季度收入下降19%，净利润几乎减半后发布的。这可能是因为它担心芯片制造市场的变化，这是对行业的描述。如今，ASML仍然过着非常滋润的生活。全球芯片制造商仍在抢购其B8849NL光刻机。它的新光刻机不仅广受欢迎，而且供不应求。二手光刻机也很受欢迎，尤其是中国芯片企业的抢购，导致日本二手光刻机价格上涨三倍。然而，由于光刻...
日期：2022-5-19阅读：760 -
为何荷兰的ASML是唯一能制造EUV光刻机的制造商
目前，世界上唯一能制造EUV光刻机的制造商是荷兰ASML。但事实上，全球光刻机制造商不仅是ASML，更不用说中国的光刻机制造商了，日本就有两家，即尼康和佳能。但ASML已经做了很多准备，蔡司、Cymer、TRUMPF等核心技术公司，通过合作、独家供应、建立技术机构等手段，捆绑在一起。在台积电的启发下，ASML开发了以水为介质的BU21072MUV-E2浸润式光刻机，最终踩上了尼康和佳能。后来ASML搞出EUV光刻机后，尼康和佳能只搞了一...
日期：2022-4-21阅读：609 -
没有光刻机能做芯片吗?
好消息是中科院突破了石墨烯的关键技术，成功出现在8寸石墨烯晶圆上。国外花了几十年才成功开发出EUV光刻机。回顾2020年至今，中国芯片频频传出好消息，除了中科院的关键技术突破，每一条信息都值得鼓舞。前中科院突破了石墨烯的关键技术，后来的华为、紫光、SMIC等半导体公司都在加强自主技术的研究。国产芯片发展多年，与华为海思、紫光集团、SMIC、长江存储等多家半导体企业合作，帮助国产芯片成长。提高国内芯片供应链系统的自主性，但这些半导体企业都...
日期：2021-1-20阅读：4446