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2SK1666 参数 Datasheet PDF下载

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型号: 2SK1666
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内容描述: 硅N沟道MOS FET [Silicon N-Channel MOS FET]
分类和应用: 晶体晶体管功率场效应晶体管局域网
文件页数/大小: 9 页 / 49 K
品牌: HITACHI [ HITACHI SEMICONDUCTOR ]
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2SK1666  
Reverse Drain Current vs.  
Source to Drain Voltage  
100  
80  
Pulse Test  
60  
40  
20  
VGS = 10 V  
0, –5 V  
1.6  
4 V  
0
0.4  
0.8  
1.2  
2.0  
Source to Drain Voltage VSD (V)  
Normalized Transient Thermal Impedance vs. Pulse Width  
3
D = 1  
0.5  
TC = 25°C  
1.0  
0.3  
0.1  
0.2  
0.1  
θch–c (t) = γS (t) · θch–c  
θch–c = 2.08°C/W, TC = 25°C  
0.05  
PDM  
0.02  
PW  
D =  
0.03  
0.01  
T
PW  
T
10 µ  
100 µ  
1 m  
10 m  
100 m  
1
10  
Pulse Width PW (s)  
7