LTC1643LCGN#TR
日期:2013-12-19LTC1643LCGN#TR |
LTC1731EMS8-4.2 |
LTC1772BES6 |
LT1886CS8/TR |
SB1040F |
LTC1771EMS8#TR |
LT1611CS5 |
全新原装进口现货需要请联系:
品超电子有限公司
联系电话:0755-82553223 QQ:1281555871 刘先生
Email:pcicnet@163.com 企业网址: www.pcicnet.com
国产半导体设备:太阳能市场占半壁江山
在半导体设备领域,几乎是国外大公司的天下,而随着
国外二手设备在中国的“触礁”以及太阳能电池产业的迅速兴起,给
国内半导体设备厂商带来了机会。
国产设备应从中低端突破
在高端设备领域,国内厂商在技术上无法与国外厂商同台竞技,
而且随着关税的逐步降低,以往的价格优势也在逐步缩小。但在技术
差距不大的中低端市场,通过市场细分,大部分国内生产商拥有稳定
的客户群,而且市场优势也相对明显。中国电子科技集团公司第四十
五研究所市场部主任胡保平对国产半导体设备所具有的优势进行了诠
释,他说,价格方面,在同等的技术水平下,国产设备价格通常不到
进口设备的1/2,高性价比及高资金回报率吸引了国内大部分采购商;
在地域上,接近市场,既有利于售前技术交流及与工艺单位的密切配
合,为用户量身定做产品,也有利于售后的维修服务和长远的零部件
供应;在服务上,市场的磨砺使国内生产商逐渐成熟,从市场导向到
用户导向,从“价格赢人”到“服务留人”,本土企业服务观念的转
变极大提升了国内用户对使用国产设备的信心。
事实上,国产半导体设备从中低端突破已经在业内达成共识。北
京七星华创电子股份有限公司微电子设备分公司总经理盛金龙告诉记
者,我们国家的半导体设备尤其是主要设备,既要在诸如曝光、刻蚀
和离子注入等关键设备上实现突破,也要关注诸如氧化扩散设备、化
学腐蚀设备、硅片清洗设备。从一定意义上说,后者更有率先实现突
破的条件,因为多年来我们沉淀了雄厚的技术,又有广泛的客户基础。
其本身的技术难度也相对于曝光、刻蚀和离子注入等关键设备要稍微
小一些,又是IC线上所用的数量巨大的设备类型。他强调说,国家及
企业在这几个产品领域应加强力量投入,这几种设备的大规模产业化
所需要的资源应该要比其他几项要少得多,实现突破的前景更美好。
中国电子科技集团公司第四十八研究所副所长王俊朝表示,IC产
业的中低端设备、太阳能电池制造设备、LED及LCD部分前工序关键设
备和后工序设备等国产设备已有良好基础的领域依然是国产设备应选
择的市场突破点。离子注入机、刻蚀机、光刻机、MOCVD等关键设
备应是国产设备选择的技术突破点。