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中科院研发低维半导体技术:纳米画笔“画出”各种芯片

时间:2020-3-13, 来源:互联网, 资讯类别:行业动态

中科院今天宣布,国内学者研发出了一种简单的制备低维半导体器件的方法——用“纳米画笔”勾勒未来光电子器件,它可以“画出”各种需要的芯片。

随着技术的发展,BC213人们对半导体技术的要求越来越高,但是半导体制造难度却是越来越大,10nm以下的工艺极其烧钱,这就需要其他技术。

中科院表示,可预期的未来,需要在更小的面积集成更多的电子元件。针对这种需求,厚度仅有0.3至几纳米(头发丝直径几万分之一)的低维材料应运而生。

这类材料可以比作超薄的纸张,只是比纸薄很多,可以用于制备纳米级别厚度的电子器件。

从材料到器件,现有的制备工艺需要经过十分繁琐复杂的工艺过程,这对快速筛选适合用于制备电子器件的低维材料极为不利。

近日,中科院上海技术物理研究所科研人员研发出了一种简单的制备低维半导体器件的方法——用“纳米画笔”勾勒未来光电子器件。

由于二维材料如同薄薄的一张纸,它的性质很容易受到环境影响。利用这一特性,研究人员在二维材料表面覆盖一层铁电薄膜,使用纳米探针施加电压在铁电材料表面扫描,通过改变对应位置铁电材料的性质来实现对二维材料性质的精准操控。

当设计好器件功能后,科研人员只需发挥想象,使用纳米探针“画笔”在铁电薄膜“画布”上画出各种各样的电子器件图案,利用铁电薄膜对低维半导体材料物理性质的影响,就能制成所需的器件。

实际实验操作中,“画笔”是原子力显微镜的纳米探针,它的作用就相当于传统晶体管的栅电极,可以用来加正电压或负电压。

但不同于传统栅电极,原子力显微镜的针尖是可以任意移动的,如同一支“行走的画笔”,在水平空间上可以精确“画出”纳米尺度的器件。

在这个过程中,研究人员通过控制加在针尖上电压的正负性,就能轻易构建各种电子和光子器件,比如存储器、光探测器、光伏电池等等。

而且,一个器件在写好之后,用针尖重新加不同的电压进行扫描,还能写成新的功能器件,就像在纸上写字然后用橡皮擦干净再重新写上一样,即同一个器件可以反复利用、实现不同功能。

就像一个机器人,刷新一下控制程序,就能做不同的事情。

研究人员还进一步将这种探针扫描技术应用于准非易失性存储器。

准非易失性存储器是指同时满足写入数据速度较快,保存数据的时间较长的一类存储器。发展这类存储技术很有意义,比如它可以在我们关闭计算机或者突然性、意外性关闭计算机的时候延长数据的保存时间。

此外,这种器件制备技术还可用于设计“电写入,光读出”的存储器,我们日常使用的光盘就是典型的“光读出”的存储媒介。

由于低维半导体载流子类型在针尖扫描电场作用下会发生改变,这导致其发光强度也会出现明显变化。

因此结合扫描图形任意编辑的特点,科研人员就可以设计出周期性变化的阵列。

这些阵列图形的每个区域都经过针尖去控制它的载流子类型,进而控制低维材料的发光强度,然后通过一个相机拍照就能直接获取一张荧光强度照片。

每一个存储单元的信息都在这张照片里“一目了然”,暗的单元可以用来代表存储态中的“0”,亮的单元可以用来表示“1” ,类似于一种新型存储“光盘”。

科研人员可以简单直接地通过拍荧光照片的方式同时获取每个存储单元的信息。

运用该技术,若用电压读出的方式,理论上的存储密度可以达到几个T-Byte/in2。


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