三菱硅薄膜三接面电池效率达到14.8%
日期:2010-2-26三菱公司利用三接面电池结构以达到全光谱吸收效果,目前正在开发阶段。公司称5mm x 5mm的硅片在实验室试验中的转换效率达到了14.8%。
它需要对每一层的薄膜沉积进行高质量处理,第一层吸收短波,第三层的吸收长波。织构制造工艺也被应用于透明电极以优化光限制。
三菱电机称,将继续其三联点硅片的研发工作,以进一步提高其转换效率。此工作将侧重于改善硅片的结构,材料以及加工。
三菱公司利用三接面电池结构以达到全光谱吸收效果,目前正在开发阶段。公司称5mm x 5mm的硅片在实验室试验中的转换效率达到了14.8%。
它需要对每一层的薄膜沉积进行高质量处理,第一层吸收短波,第三层的吸收长波。织构制造工艺也被应用于透明电极以优化光限制。
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