SPARC:用于先进逻辑和 DRAM 的全新沉积技术
日期:2023-7-12SPARC(Selective Pre-deposition Annealing of RuCl2)是一种用于先进逻辑和DRAM的全新沉积技术。这项技术通过选择性的预沉积和退火过程,能够在TL431BIDBZR芯片制造过程中实现更高的性能和更低的功耗。
在传统的芯片制造过程中,金属电极和介质层之间常常存在电荷积累和漏电的问题,这会导致功耗增加和性能下降。为了解决这个问题,SPARC技术引入了一种新的材料——RuCl2(二氯化铼)。RuCl2具有良好的导电性和稳定性,在电极和介质层之间形成一层平滑的界面,减少了电荷积累和漏电的问题。
SPARC技术的制造过程包括以下几个步骤:
1、沉积金属电极:首先,在芯片表面沉积金属电极材料,常用的材料包括铝合金或铜。这些金属电极将作为电子流的通道。
2、选择性预沉积:然后,在金属电极上选择性地预沉积一层RuCl2材料。选择性预沉积是通过控制沉积条件,使RuCl2只沉积在金属电极上,不沉积在其他区域。
3、退火处理:接下来,对芯片进行退火处理。退火过程会使RuCl2材料在金属电极上形成一层均匀的薄膜,并且与金属电极形成良好的界面。
通过SPARC技术制造的芯片具有以下优势:
1、降低功耗:SPARC技术能够减少金属电极和介质层之间的电荷积累和漏电,从而降低功耗。这对于先进逻辑和DRAM等高性能芯片来说尤为重要。
2、提高性能:SPARC技术能够形成平滑的金属电极和介质层界面,减少电子的散射和反射,提高电子的迁移速度,从而提高芯片的性能。
3、提高可靠性:SPARC技术能够降低金属电极和介质层之间的漏电问题,提高芯片的可靠性和寿命。
4、简化制造过程:SPARC技术利用了一种单一材料RuCl2,简化了制造过程,降低了成本。
总之,SPARC技术是一种用于先进逻辑和DRAM的全新沉积技术,能够通过选择性的预沉积和退火过程,实现更高的性能和更低的功耗。这项技术具有降低功耗、提高性能、提高可靠性和简化制造过程等优势,有望在芯片制造领域得到广泛应用。